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电子级超纯水的技术要求

时间:2021-10-19 11:32:19 点击:77次

在半导体制作工艺中,80%以上的工序要经过化学处理,而每一道化学处理都离不开超纯水;在硅片的处理工序中,一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程,此时如水中含有杂质便会进入硅片,造成器件性能下降成品率低。

    电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质18.3 MΩ.cm (25℃)。对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。如256兆位的动态随机储存器生产工艺,光刻线条宽已达0.1微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤0.05μm,而且≥0.05μm不得超过500个/升超纯水。

电子级超纯水的技术要求级别

 

 

 

指标

中华人民共和国电子级水国家标准(GB/T11446.1997

ASTM电子级水

(E-I)标准

(1993)

EW-I

EW-II

EW-III

EW-IV

设计参考值


电阻率

MΩ.cm(25)

18以上

(95%时间)

不低于17

15

(95%时间)不低于13

12.0

0.5

10以上

(95%时间)

不低于5

18以上(90%时间)不低于

17

全硅,最大μg/L

2

10

50

1000

20.0

5(SIO2)

>1μm微粒数,

最大值,/mL

0.1

 

5

10

500

10

0.1

 

细菌个数,

最大值个/ mL

0.01

0.1

10

100

<10

1/1000

铜最大值μg/L

0.2

1

2

500

2

1

锌最大值μg/L

0.2

1

5

500

5

0.5

镍最大值μg/L

0.1

1

2

500

2

0.1

钠最大值μg/L

0.5

2

5

1000

5

0.5

钾最大值μg/L

0.5

2

5

500

5

2

氯最大值μg/L

1

1

10

1000

10

1

硝酸根,

最大值μg/L

1

1

5

500

5

1

磷酸根,

最大值μg/L

1

1

5

500

5

1

硫酸根,

最大值μg/L

1

1

5

500

5

1

总有机碳,

最大值μg/L

20

100

200

1000

200

1

细菌内毒素

(E.U.)






0.03

 


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